精密位移平臺(m.2009788.com)(www.snddq.cc)分為兩大類:氣蘘減振及機(jī)械阻尼減振,氣蘘減振可獲得較低的頻率(0.7-3)Hz,機(jī)械阻尼減振效果稍遜(3-6)Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇精密位移平臺的時候要考慮所要求的光學(xué)平臺其減振性能與實驗采集數(shù)據(jù)的精密性相適應(yīng),儀器器件調(diào)試精密度與穩(wěn)定性能也直接影響數(shù)據(jù)的正常采集.光學(xué)平臺在整個實驗儀器器件中承擔(dān)的角色是承載、固定、排除減弱外界振源對儀器器件干擾,光學(xué)平臺的用途廣泛:以作為在光全息技術(shù),光譜實驗技術(shù),激光聚變技術(shù),現(xiàn)代光學(xué)技術(shù),精密檢測技術(shù),集成電子技術(shù),光纖通訊及醫(yī)療生物等現(xiàn)代科學(xué)研究工程中的基礎(chǔ)設(shè)備.鑒于光學(xué)平臺在實驗中的作用,因此要求制造的光學(xué)平臺具有剛度強(qiáng)、形變量小、承載能力大、減振效果好、對儀器器件的固定和保護(hù)還要求光學(xué)平臺的表面具有光潔、防腐、防銹、平整、方便固定器件.在材料選擇上采用強(qiáng)度較高的中碳鋼,平臺的表面則選用防腐、防銹的導(dǎo)磁不銹鋼.但在要求防電磁場干擾的情況下也全部采用不導(dǎo)磁不銹鋼。當(dāng)精密位移平臺(m.2009788.com)(www.snddq.cc)作為科學(xué)研究的基礎(chǔ)設(shè)備時需要相對長的時間穩(wěn)定和瞬時快速采集數(shù)據(jù)所要求振動振幅,頻率(Hz).提高光學(xué)平臺所有技術(shù)指標(biāo)并不是唯一的選擇.外部壞境對精密位移平臺(m.2009788.com)(www.snddq.cc)影響也是不可忽視的因素.
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